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            1. 產品詳情
              • 產品名稱:偏置靶型單靶磁控鍍膜儀

              • 產品型號:CY-MSP300G-RB
              • 產品廠商:泰諾
              • 產品文檔:
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              簡單介紹:
              偏置靶型單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。偏置靶型單靶磁控鍍膜儀真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗
              詳情介紹:

              本設備為偏置靶型單靶磁控鍍膜儀,磁控靶偏置于腔體一側,濺射范圍可覆蓋樣品臺一半,通過樣品臺旋轉可以實現更大樣品的均勻鍍膜。理論*大支持樣品直徑為180mm。設備外形為桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗。

              偏置靶型單靶磁控鍍膜儀技術參數:

              CY-MSP300G-RB rotate bias) 桌面型大腔體偏置靶單靶磁控鍍膜儀

              樣品臺

              尺寸

              φ150mm

              轉速

              轉速0-20rpm可調

              磁控濺射靶

              數量

              2” x1  偏置于腔體一側

               

               

              真空腔體

              腔體尺寸

              φ300mm X 200mm

              觀察窗口

              全向可視

              腔體材料

              高純石英

              開啟方式

              頂蓋拆卸式

              下法蘭

              裝有旋轉式樣品臺及進出氣口

              真空系統

              機械泵

              雙級旋片泵

              抽氣接口

              KF16

              分子泵

              渦輪分子泵

              抽氣接口

              KF40

              真空測量

              電阻規+電離規復合真空計

              排氣接口

              KF40

              極限真空

              1.0E-3Pa

              供電電源

              AC 220V 50/60Hz

              抽氣速率

              前級泵 1.1L/s 分子泵:60L/S

              電源配置

              數量

              直流電源 x1

              *大輸出功率

              直流電源300W

               

              其他

              供電電壓

              AC220V,50Hz

              整機尺寸

              500mm X 320mm X6200mm

              整機功率

              2kW

               

               

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